外資連續買超滿 5 個交易日
觸發中 · 目前 7%外資(不含自營商)買賣超連續 5 日為正,事件日為第 5 日;20 日內重複觸發只計一次
事件後 120 日,歷史上平均 +16.7%
過去 5 次觸發,120 日後平均上漲 16.7%、落後大盤 3.59 個百分點,勝率 60%。
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同組指標用市場百分位排序,估值指標越低越好。
大戶派發、籌碼倒給散戶 — 偏空
窗口 2026-01-18 起 · 股價 +25% · 分點至 2026-06-18· 集保至 2026-06-18
派發者手上還有 2076 張,實際還在賣的約 1487 張,最長約 774 個交易日見底。 近期持有者吸收 +845 vs 派發 -382 張。
方向偏弱:大戶佔比下降,散戶佔比上升。
描述籌碼流向,非投資建議。分點僅揭露量大分點、約 1 日遞延;集保為週頻。庫存為自起點的相對重建,非絕對持股。交易台之避險/隔日沖分類係依分點身分推估,非個案確認;淨空未必代表看空。
以下訊號在最近一筆資料中成立,附這檔股票自身歷史上每次出現後的前瞻報酬統計
外資(不含自營商)買賣超連續 5 日為正,事件日為第 5 日;20 日內重複觸發只計一次
事件後 120 日,歷史上平均 +16.7%
過去 5 次觸發,120 日後平均上漲 16.7%、落後大盤 3.59 個百分點,勝率 60%。
「月營收年增率 ≥ 20%」過去 242 個月,每月平均約 404 檔個股符合條件;這些個股之後 60 個交易日的還原股價報酬,等權平均為 6.94%,平均贏過大盤 2.37 個百分點,在 64.5% 的月份中跑贏發行量加權股價報酬指數。
每月對全市場符合訊號的股票取等權平均前瞻 60 日還原報酬,再對月份平均;超額相對發行量加權股價報酬指數
這些訊號現在沒有發生,列出歷史樣本以供對照
還原股價首次站上過去 252 個交易日最高;20 日內重複觸發只計一次
單月營收年增率達 20% 以上;事件日為公告截止日後第一個交易日,避免提前用到未公告資訊
歷史 16 次,觸發後 60 日平均 +2.9%,勝率 57.1%,平均贏大盤 -7.81 個百分點。
天虹科技股份有限公司成立於2002年7月17日,總部位於新竹縣竹北市嘉政一街1號6樓,工廠位於新竹縣湖口工業區仁愛路1號,另有台南南科據點、廈門、上海、新加坡及日本名古屋相關據點。公司於2023年12月12日由興櫃轉上市,證券類型為普通股。董事長兼總經理為黃見駱,集團執行長為易錦良,執行副總經理為羅偉瑞。證交所個股資料顯示實收資本額為新臺幣676,552,630元;公司2026年6月法說簡報列示實收資本額為新臺幣675,762,630元、員工人數424人,兩者可能因資料基準日不同而有差異。2024年度年報列示2024年底員工394人,2025年3月31日401人。2024年度合併營收25.87641億元、營業利益4.08505億元、稅後淨利4.06803億元、EPS 6.03元。2025年度法說簡報列示全年營收22.44646億元,2026年第1季營收5.82447億元。2024年3月31日前十大股東包含兆富國際投資6.91%、彪富國際投資6.33%、海富國際投資6.31%、百瑞發投資5.73%、慶虹科技5.58%、展虹國際4.89%、羅偉瑞4.77%、黃見駱3.24%、頂富國際投資2.96%、真虹科技2.64%。公司關係企業包含鑫虹先進、Gimtek Singapore、鑫天虹廈門、傳晶電子上海,分工涵蓋設備零組件買賣、東南亞及大陸地區銷售與技術服務。
天虹以半導體設備零組件、維修與機台服務起家,2017年成立半導體設備開發處,之後推出PVD、Bonder、Debonder、ALD、Powder ALD、PEALD、Descum、Carbon PVD、ITO PVD、EUV Inspection、Panel PVD、Panel Descum等產品線。主要產品與服務包含:物理氣相沉積設備PVD,用於金屬層、晶種層、阻障層及過渡層;原子層沉積設備ALD,用於高階梯覆蓋率與緻密薄膜的絕緣層或金屬/低溫材料;晶圓鍵合與解鍵合設備,用於晶圓減薄、先進封裝、SiC功率元件及高翹曲晶圓處理;Descum與電漿相關設備,用於光阻、PI殘膠去除、3D IC、乾蝕刻、SiC電漿研磨與面板級封裝;EUV穿透率/光罩保護膜檢測設備;以及半導體設備零備件、客製化零件、維修、拆移機與人力服務。商業模式為客製化研發、設備製造銷售、零備件與維修服務並行,透過貼近台灣半導體供應鏈的工程服務縮短交期與停機時間,並以國產化、客製化、售後服務及與策略客戶共同開發作為競爭利基。2024年銷售地區為內銷43.96%、大陸含香港46.17%、亞洲其他合計約9.43%、歐洲0.21%、美洲0.23%。2024年主要銷貨客戶以匿名A集團揭露,金額4.58153億元、占17.71%,公司表示單一或集團客戶未超過20%。2022年戰略新板資料曾揭露當時營收結構為設備零組件44.26%、PVD/ALD/Bonder/Debonder等設備33.11%、其他維修勞務22.63%;2024年年報未以同格式揭露完整產品別占比。
2025至2028年展望重點在先進封裝、AI/HPC、化合物半導體、矽光子/CPO、FOPLP/PLP、CoWoS相關製程、EUV光罩保護膜檢測及國產設備替代。公司2026年6月法說簡報列示截至2026年第1季累計出機154台,2026年第1季已交付首台310x310mm PLP PVD系統給策略客戶並取得第二家客戶訂單;EUV第二代穿透率檢測工具達成性能目標,優於第一代原型機;2026年進行12吋Auto Mechanical De-Bonder交付、Lumina UV ALD、HyFA ALD、Vetra etching chamber開發,並規劃2027年第1季推出310x310 Panel ALD chamber與Nexda 2.0操作軟體。公司路線圖顯示PVD往Panel PVD、TGV、CPO應用推進;ALD往Metal ALD、低溫PEALD、Low-k PECVD、UV ALD、PLP ALD推進;Bonder/Debonder往12吋Temporary Bonder/Debonder、W2W Bonder與高翹曲晶圓處理推進;Descum往Panel Descum、ABF etching、3DIC、Plasma Dicing、TSV與SiC Plasma Polish推進;EUV Inspection由2024年第一代5W系統朝2026至2028年200W第二代及>1100 sites/hour測試平台推進。公司2024年年報列示未來研發計畫包含SiC Carbon PVD、FOPLP PVD/ALD、EUV光罩檢測、TFR/ITO/IXO、高深寬比填洞與雙面PVD、8吋/12吋鍵合解鍵合、SiC電漿研磨、PECVD、矽光子與探針/space transformer應用;近兩年研發投入均逾2億元,2025年隨營運規模擴大提高研發預算。主要風險包括:半導體資本支出循環與客戶驗證期長,EUV與PLP等新設備量產時程仍具不確定性;國產設備導入需突破客戶信任與認證門檻;人才招募與留任困難;智慧財產權與營業秘密風險;地緣政治、關稅、供應鏈區域化與大陸市場需求波動;新產品若未能準時通過關鍵客戶驗證,可能造成營收延後。2025至2028具體營收或獲利預測未由公司完整公開揭露,本欄不作數字推估。
本段公司基本資料整理自公開資訊(公司年報、財報、新聞與法人報告),非 finlab 回測數據;2025–2028 展望含前瞻推估,僅供參考。
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本頁內容為歷史資料統計與教育用途,不構成投資建議。投資一定有風險,過去績效不代表未來表現,交易前請自行評估並承擔風險。